技術(shù)編號：11530336
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及感光性樹脂組合物及使用其的固化膜、元件以及半導(dǎo)體器件的制造方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件的制造工序中，為了在半導(dǎo)體基板中形成雜質(zhì)區(qū)域，使用光致抗蝕劑等抗蝕劑。作為形成雜質(zhì)區(qū)域的方法，例如可舉出下述方法：由含有用于形成雜質(zhì)區(qū)域的元素的化合物將該元素離子化，使其與半導(dǎo)體基板碰撞的方法(以下記為“離子注入”)；或?qū)⒑杏糜谛纬呻s質(zhì)區(qū)域的元素的化合物暴露于半導(dǎo)體基板的方法(以下記為“摻雜劑暴露”)。例如，針對形成于半導(dǎo)體基板上的抗蝕劑膜，隔著具有所期望的圖案的掩模或掩模版(reticle)照射活性...
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