技術(shù)編號：11661712
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及光學(xué)裝調(diào)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種深紫外光學(xué)系統(tǒng)的共焦對準裝置。背景技術(shù)深紫外光學(xué)系統(tǒng)，如半導(dǎo)體微光刻用的投影光學(xué)系統(tǒng)、半導(dǎo)體工業(yè)中所使用的觀察系統(tǒng)、微納結(jié)構(gòu)制造過程中所使用的紫外光學(xué)系統(tǒng)等等，通常具有極小的波像差，如投影光刻物鏡的系統(tǒng)波像差在幾個納米量級。因此，在深紫外光學(xué)系統(tǒng)加工、集成及工作的各個環(huán)節(jié)都要進行波像差檢測。在基于雙通道夏克‐哈特曼法檢測深紫外光學(xué)系統(tǒng)波像差中，深紫外光學(xué)系統(tǒng)與球面反射鏡的共焦對準精度是影響波像差測量結(jié)果的一個關(guān)鍵因素，因此，深紫外光學(xué)系統(tǒng)與球面反射鏡的...
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