技術(shù)編號(hào)：11822186
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于光學(xué)精密測量技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種測量非透明薄膜厚度分布的雙面干涉裝置和方法。背景技術(shù)在工業(yè)生產(chǎn)、能源利用、國防軍事等領(lǐng)域中，微電子薄膜、光學(xué)薄膜、抗氧化薄膜、巨磁電阻薄膜、高溫超導(dǎo)薄膜等薄膜均有著廣泛應(yīng)用，薄膜的厚度是非常重要的參數(shù)，薄膜材料的力學(xué)性能、透光性能、磁性能、熱導(dǎo)率、表面結(jié)構(gòu)等都與厚度有密切的聯(lián)系。如大規(guī)模集成電路生產(chǎn)工藝中，各類薄膜厚度的任何微小變化對集成電路的性能都會(huì)產(chǎn)生直接的影響。再如在能源和軍事應(yīng)用領(lǐng)域中的慣性約束聚變研究方向，金屬薄膜在高功率激光器產(chǎn)生瞬時(shí)脈沖的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。