技術(shù)編號：11946085
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于電子科學(xué)與技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種探針法測量介質(zhì)材料表面電位的裝置及方法。背景技術(shù)在研究電子束激發(fā)的二次電子發(fā)射現(xiàn)象中，往往采用金屬筒狀收集極偏壓法對二次電子發(fā)射系數(shù)進行測量。當(dāng)入射電子照射介質(zhì)樣品后，由于介質(zhì)材料導(dǎo)電性差，致使樣品材料表面會有電子積累，從而產(chǎn)生帶電現(xiàn)象，進而影響二次電子發(fā)射特性。為了中和介質(zhì)表面所帶的電荷，可以采用迫使二次電子返回的技術(shù)，如負(fù)偏壓金屬筒狀收集極的方法。這種方法可以使樣品累積的電荷穩(wěn)定在一個負(fù)帶電的狀態(tài)下。此時，經(jīng)中和后，樣品表面具有一個穩(wěn)定的負(fù)電位。對該...
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