技術(shù)編號：1256633
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及，該裝置包括氣體控制模塊、電源激勵模塊、等離子體發(fā)生模塊，氣體控制模塊通過流量控制器控制稀有氣體和強活性摻雜氣體，實現(xiàn)氣體配比和流速可調(diào)；電源激勵模塊利用正弦或脈沖高壓電源，為所述等離子體發(fā)生模塊提供穩(wěn)定的激勵；等離子體發(fā)生模塊通過分段間隙的電極結(jié)構(gòu)，利用以稀有氣體為主的混合氣體產(chǎn)生大氣壓冷等離子體射流。本裝置可以在大氣壓下產(chǎn)生長度在1cm到2m，直徑在0.2mm到10mm范圍內(nèi)，均勻、穩(wěn)定、常溫、強活性的等離子體射流，適用于不同尺寸內(nèi)窺鏡的消毒...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。