技術(shù)編號(hào)：12604404
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。拼版蒸鍍掩模本申請(qǐng)是大日本印刷株式會(huì)社于2013年1月11日提交的名稱為“拼版蒸鍍掩模的制造方法及由此所得拼版蒸鍍掩模以及有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法”、申請(qǐng)?zhí)枮?01380005281.3的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及拼版蒸鍍掩模的制造方法及由此所得拼版蒸鍍掩模以及有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法。背景技術(shù)目前，在有機(jī)EL元件的制造中，有機(jī)EL元件的有機(jī)層或者陰極電極的形成中，例如使用由在要蒸鍍的區(qū)域?qū)⒍鄠€(gè)微細(xì)縫隙以微小間隔平行排列而成的金屬構(gòu)成的蒸鍍掩模。在使用該蒸鍍掩模的情況下，在要蒸鍍...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。