技術編號：1358169
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及，具體涉及一種在半導體制造工藝中進行有效清洗并且經濟的濕式化學清洗方法。背景技術 DUO是一種以硅氧烷為基礎的聚合物，它含有合適的能在248納米和193納米波長下吸收輻射的發(fā)色團，由Honeywell公司生產。DUO248和DUO193在90納米以及65納米的后端制程(BEOL，Back End of Line)中通常是作為一種無機的抗光反射涂層原料。對于先進的65納米或以下半導體制程來說，應用DUO193是一種主要的選擇，但是DUO193在蝕刻...
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