技術(shù)編號：1453023
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。提供一種旋轉(zhuǎn)清洗裝置，其在旋轉(zhuǎn)清洗時，能夠防止清洗時被污染的噴霧和清洗水再次附著到晶片。旋轉(zhuǎn)清洗裝置(1)具備保持晶片的保持工作臺(10)；保持工作臺旋轉(zhuǎn)部(15)；清洗水噴射構(gòu)件(50)；收納保持工作臺的腔(30)；從腔內(nèi)將氣體排出的導管(45)；風扇部件(20)，其形成為圓環(huán)形狀，并覆蓋從保持工作臺的表面位置到腔的開口部為止的圍繞保持工作臺的外周空間；以及使風扇部件旋轉(zhuǎn)的風扇部件旋轉(zhuǎn)部(25)，風扇部件利用風扇部件旋轉(zhuǎn)部進行旋轉(zhuǎn)，由此在保持工作臺的上部...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。