技術編號：1454513
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及至少一種選自過酸類的氧化劑在用于半導體晶片處理(具體是用于半導體晶片的清潔和化學機械拋光)的組合物中的用途。本發(fā)明還涉及一種組合物的用途以及因此涉及該組合物。使用本發(fā)明的氧化劑導致一種良好的效應同時限制/避免了襯底的腐蝕。專利說明氧化劑用于半導體晶片處理的用途、為此的組合物的用途 W及組合物[0001] 本申請是申請日為2008年4月11日、申請?zhí)枮?00880018476. 0、發(fā)明名稱為"氧 化劑用于半導體晶片處理的用途、為此的組合物的用途W(wǎng)...
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