技術(shù)編號(hào):1541351
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種抗蝕劑剝離劑的組合物,它對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備、液晶顯示器等制造中使用的光致抗蝕劑、以及在蝕刻和灰化過程之后的保留的殘余光致抗蝕劑來說具有優(yōu)異的剝離性,并為金屬膜或各種無機(jī)材料膜形成的基板提供優(yōu)異的耐腐蝕性。本發(fā)明的抗蝕劑剝離劑組合物對(duì)于金屬線圖以及孔圖具有高的剝離效果。作為典型的剝離劑組合物,已經(jīng)使用基于羥基胺(ACT-935,Ashland公司提供,或EKC-270,EKC公司提供)、氫氧化四甲基銨、氟化銨(EKC-640,EKC公司提供)的剝離...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。