技術(shù)編號：1947100
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種金屬熔煉設備，更特別地說，是指一種能夠用于真空熔煉高活性 金屬(Ti、 Nb、 Hf等金屬或合金)的坩堝及其采用熱壓燒結(jié)制坩堝的方法。技術(shù)背景現(xiàn)有真空熔煉高活性金屬使用的坩堝材料主要為氧化鈣CaO、氧化鎂MgO、 氮化硼B(yǎng)N、氟化鈣CaF2等，坩堝的使用溫度一般為1200 1500°C,對于熔煉 Ti、 Nb、 Hf等金屬或合金具有一定困難。氧化釔(Y203)陶瓷是一種高性能透明陶瓷，具有優(yōu)良的耐熱、耐腐蝕和髙 溫穩(wěn)定性。氧化釔的熔點大于24...
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