技術(shù)編號(hào)：1968754
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種新型寬帶減反增透薄膜及其制備方法，屬光學(xué)薄膜材料領(lǐng)域。 背景技術(shù)高發(fā)電成本和低光電轉(zhuǎn)換效率是當(dāng)前制約光伏發(fā)電大規(guī)模應(yīng)用的主要障礙。通過制備新型高性能減反增透納米結(jié)構(gòu)來提高太陽能電池表面材料的透光率已成為提高太陽能電池光電轉(zhuǎn)換效率、降低成本的重要發(fā)展方向之一，對(duì)推廣太陽能利用具有重要的意義。傳統(tǒng)減少基底反射、提高基底透過率的方法是通過刻蝕技術(shù)在基底表面形成減反射結(jié)構(gòu)((1) C. Lee, S. Y. Bae, S. Mobasser, H. ...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。