技術(shù)編號(hào)：2006539
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種含TiO2的石英玻璃(在本說明書中，下文中稱作“1102^02玻 璃”)，特別地是，涉及一種待用作EUV光刻用曝光工具的光學(xué)部件的TiO2-SiO2玻璃。本發(fā) 明中提及的EUV(極紫外)光是指波長在軟X射線區(qū)或真空紫外區(qū)的光，特別是波長在約 0. 2至IOOnm的光。背景技術(shù)在光刻技術(shù)中，迄今已經(jīng)廣泛利用通過將微細(xì)電路圖案轉(zhuǎn)印到晶片上以制造集成 電路的曝光工具。伴隨著集成電路的高集成化和高功能化的發(fā)展趨勢，集成電路的微細(xì)化 正在推進(jìn)。因此，需...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。