技術(shù)編號(hào):2683625
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于微納加工,具體涉及ー種基于負(fù)性光刻膠和掩膜移動(dòng)曝光エ 藝的微透鏡陣列制備方法。背景技術(shù)微透鏡陣列是按一定規(guī)則排布的多個(gè)微透鏡,単元大小一般在微米量級(jí)。微透鏡陣列在光束勻滑、液晶顯示、波前傳感、CCD或CMOS傳感器等方面有廣泛的應(yīng)用。目前使用較多的微透鏡陣列加工方法主要有熱熔法、直寫(xiě)法、灰度掩膜和移動(dòng)掩膜法等,這些方法各有特點(diǎn)。其中熱熔法將光刻膠加工成相互獨(dú)立的微柱體陣列,然后加熱基片使光刻膠熱熔,在表面張カ的作用下,光刻膠柱體會(huì)逐漸變成接近球形...
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