技術(shù)編號：2685916
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及基板生產(chǎn)過程中的前烘處理，具體涉及。背景技術(shù)在薄膜晶體管液晶顯示(TFT-LCD)彩膜(CF，Color Filter)工藝中，前烘設(shè)備通常設(shè)置在涂布機下游，其主要作用是進(jìn)一步除去涂布光刻膠的溶劑以及增強光刻膠與基板的粘著力，防止曝光區(qū)域在顯影時因粘著力不夠而發(fā)生膜脫落造成不良。前烘設(shè)備在進(jìn)行工藝處理時，在其腔體內(nèi)部會產(chǎn)生有機升華物，造成內(nèi)部腔體的微粒(Particle)增多，影響到產(chǎn)品品質(zhì)，所以有必要在進(jìn)行工藝處理時對腔體進(jìn)行排氣，以提高產(chǎn)品良...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。