技術(shù)編號(hào)：2686929
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及確定曝光裝置的曝光條件的確定方法和信息處理裝置。背景技術(shù)對(duì)于通過使用光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體器件，采用通過投影光學(xué)系統(tǒng)將掩模(mask)(中間掩模(reticle))的圖案投影和轉(zhuǎn)印到基板(例如，晶片)上的曝光裝置。近年來，伴隨半導(dǎo)體器件的小型化(即，伴隨電路線寬的減小)，需要進(jìn)一步提高曝光裝置的分辨率的技術(shù)。曝光裝置需要將掩模的圖案(其圖像)以期望的形狀轉(zhuǎn)印到基板上的期望的位置。但是，由于曝光中的一些誤差因素，掩模圖案常常以偏離期望形狀的形狀被轉(zhuǎn)印到...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。