技術(shù)編號：2697000
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供了一種用于去除光阻殘留物的清洗液及其組成。該去除光阻殘留物的清洗液含有醇胺，有機溶劑，沒食子酸及其酯以及3-氨基-1,2,4-三氮唑。該去除光阻殘留物的清洗液不含有水、羥胺和氟化物。該清洗液在去除晶圓上的光阻殘留物同時，對于基材如金屬鋁、銀、銅、鈦、鎢和非金屬二氧化硅、氮化鎵等基本無腐蝕，在半導體及LED晶片清洗等領域具有良好的應用前景。專利說明一種去除光阻殘留物的清洗液[0001]本發(fā)明涉及一種清洗液，更具體地說，涉及一種去除光阻殘留物的清洗液...
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