技術(shù)編號：2709905
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種檢查方法確定了襯底圖案的輪廓參數(shù)的值。制造具有基準(zhǔn)圖案目標(biāo)(BP)的基準(zhǔn)襯底，其具有由例如CD(中間臨界尺寸)、SWA(側(cè)壁角)和RH(抗蝕劑高度)等輪廓參數(shù)所描述的輪廓。散射量測用于獲得來自第一和第二目標(biāo)的第一和第二信號。微分圖案輪廓參數(shù)的值通過使用貝葉斯微分成本函數(shù)基于基準(zhǔn)光瞳和受擾光瞳之間的差并且光瞳對圖案輪廓參數(shù)的依賴性來計(jì)算。例如，測量基準(zhǔn)過程和受擾過程之間的差，用于光刻過程的穩(wěn)定控制。正向反饋微分疊層參數(shù)也由與圖案目標(biāo)相同的襯底上的疊層目標(biāo)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。