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      透明導(dǎo)電膜蝕刻組合物的制作方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):2710890

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      本發(fā)明涉及透明導(dǎo)電膜蝕刻組合物,更具體地說(shuō),涉及如下的透明導(dǎo)電膜蝕刻組合物,該蝕刻組合物用于在制造薄膜晶體管液晶顯示裝置等時(shí)對(duì)透明導(dǎo)電膜(ITO膜)進(jìn)行選擇性地蝕刻,而不會(huì)對(duì)構(gòu)成TFT(薄膜晶體管,thin film transistor)的柵極(gate)配線材料即Mo/Al-Nd雙重膜和作為源極/漏極(source/drain)配線材料的Mo單一膜造成影響,所形成的透明導(dǎo)電膜的輪廓(profile)優(yōu)異,蝕刻速度快,具有節(jié)約LCD制造成本和提高工序收率...
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