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      一種聲表面波器件在光刻過程中的前烘方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):2714683

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      本發(fā)明提供了,屬于聲表面波器件,所述方法包括將烘箱的溫度穩(wěn)定在160攝氏度,晶片將晶片放入所述烘箱中烘烤;烘烤10分鐘之后將所述烘箱的溫度降至155攝氏度,再烘烤10分鐘之后將所述烘箱的溫度降至150攝氏度,恒溫保持1小時(shí);將所述烘箱的溫度降至120攝氏度,溫度恒定10分鐘后取出所述晶片。本發(fā)明通過將晶片的烘烤溫度控制在150攝氏度至160攝氏度,使光刻膠達(dá)到流變狀態(tài),達(dá)到最大限度的保護(hù)線條作用,減緩側(cè)向腐蝕的速度,實(shí)現(xiàn)厚膜細(xì)線條的目的,從而降低干刻或剝離...
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