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      一種半自動及全自動曝光機的對位機構的制作方法技術資料下載

      技術編號:2720653

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      本實用新型公開了一種半自動及全自動曝光機的對位機構,其特征在于,包括一側相互連接的上框架及固定框架,上框架內設有上玻璃,固定框架內設有活動框,活動框內設有下玻璃;固定框架底部設有用于調整活動框與固定框架相對位置的對位裝置;所述對位裝置包括橫向對位裝置、縱向對位裝置、預緊裝置以及鎖緊裝置。本實用新型提供的對位機構可使PCB板或下底片在坐標X軸、坐標Y軸、及旋轉θ軸上運動,移動的精度通過采用定位精度能力高的精密步進脈沖分割馬達,精密研磨的絲桿與精密研磨的導軌,...
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      • 楊老師:物理電子學