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      高清晰度掩模及其制造方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):2731120

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      本發(fā)明涉及一種。技術(shù)背景衰減相移掩模(APSM)采用一種相移器(shifter),其在鉻較佳地阻隔 光時(shí)選擇性地發(fā)送約6-15%的光。然而,受限于APSM的曝光分辨率,僅使用APSM難以形成70nm或更 小的精細(xì)圖案??赏ㄟ^(guò)圖1和圖2來(lái)說(shuō)明。圖1示出現(xiàn)有技術(shù)的APSM,圖2是示出使用圖1中所示的APSM透射 的光強(qiáng)度曲線圖。參照?qǐng)D1和圖2,現(xiàn)有技術(shù)的APSM具有在石英片10上被圖案化的相 移器20。相移器20由形成100nm圖案的區(qū)域21和形成70nm圖案...
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