技術(shù)編號(hào):2732555
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種應(yīng)用于光刻機(jī)中的工件臺(tái)平衡質(zhì)量定位系統(tǒng),特別是具有 重力補(bǔ)償及垂向精密定位裝置的工件臺(tái)平衡質(zhì)量定位系統(tǒng)。背景技術(shù)光刻是指將一 系列掩模版上的芯片圖形通過(guò)曝光系統(tǒng)依次轉(zhuǎn)印到硅片相應(yīng)層上的復(fù)雜的工藝過(guò)程。整個(gè)光刻過(guò)程大約消耗芯片前道制造時(shí)間的60%,占 有整個(gè)芯片制造的近40%的成本。而這一系列復(fù)雜、昂貴、耗時(shí)的光刻工藝過(guò) 程集中在芯片前道生產(chǎn)線(xiàn)對(duì)應(yīng)的一組光刻機(jī)上完成,因此光刻機(jī)的光刻精度和 產(chǎn)率高低直接影響著芯片的集成度和制造成本。與直徑200...
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