技術(shù)編號：2733907
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種，更特別地涉及一種灰度光罩， 其具有簡單結(jié)構(gòu)，且易于制造。背景技術(shù)在半導(dǎo)體或薄膜晶體管液晶顯示器(TFTLCD)的制造中，微 影及蝕刻過程是非常重要的過程?，F(xiàn)有的微影過程主要包含光阻覆蓋、曝光 及顯影等步驟。首先，參考圖l，將光阻12形成于工件14上。然后，來自 光源的平行光16，經(jīng)過光罩10后，入射在該光阻12上。由于該光罩10具 有預(yù)定圖案18，用以反射部分入射光，因此經(jīng)過該光罩IO的光線具有與該 光罩10相同的圖案18，并使位于該工件1...
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