技術(shù)編號(hào)：2738901
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體器件及其制造工藝，尤其涉及一種半導(dǎo)體材料上的光刻標(biāo)記 及其制作方法。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件工藝中，光刻工藝是個(gè)非常重要的工藝步驟，直接影響到半導(dǎo)體器件 及組件的性能和成品率。為了實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體器件各層之間的精確套準(zhǔn)，通常將光刻標(biāo)記制作在半導(dǎo)體材料表面；光刻系統(tǒng)首先找到光刻標(biāo)記位置，然后利用光刻標(biāo)記的坐標(biāo)來(lái)完 成器件每層的定位。因此，光刻標(biāo)記必須能夠被光刻系統(tǒng)清晰地識(shí)別，才能保證光刻的 精度。步進(jìn)式光刻作為現(xiàn)代半導(dǎo)體圓片制造工藝中的主流光刻技...
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