技術(shù)編號：2739417
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種半導體制造用光刻裝置及其使用方法和用途，具體涉及一 種半導體制造中光亥l傭光罩及其使用方法禾口用途。技術(shù)背景圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)是現(xiàn)有的集成電路制造技術(shù)中的基本方法。其具體方法是靠 光刻技術(shù)將模板上的圖形轉(zhuǎn)移到器件襯底層上，然后通過刻蝕，填充，長膜， 化學機械拋光等技術(shù)將圖形制造出來。這種技術(shù)簡單易行，而且工藝成熟。但 是對于現(xiàn)有的基于光罩圖形轉(zhuǎn)移的光刻技術(shù)，對于不同的器件，每次都需要制itX寸應(yīng)的特定的光刻光罩才旨腿行制造，大大提高了產(chǎn)品生產(chǎn)的成本...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。