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      檢驗方法和設備、光刻處理單元和器件制造方法技術資料下載

      技術編號:2740740

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      本發(fā)明涉及一種檢驗方法以及一種使用光刻技術制造器件的方法,所 述檢驗方法例如可用在利用光刻技術的器件制造中。本發(fā)明尤其涉及使用 光刻技術加工的器件的檢驗以及根據(jù)其衍射圖案對器件上的對象的重構。背景技術光刻設備是將所需圖案應用于襯底上(通常是襯底的目標部分上)的一種機器。光刻設備例如可以用于集成電路(ic)的制造。在這種情況下, 圖案形成裝置(或者可替代地稱為掩?;蛘哐谀0?可以用來產(chǎn)生在ic的單層上形成的電路圖案。該圖案能被轉(zhuǎn)移到襯底(例如,硅晶片)的目標...
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