技術(shù)編號(hào)：2744807
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別涉及。 背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體器件的集成度提高，半導(dǎo)體器件的線寬越來越小，關(guān)鍵尺寸的控制 也越來越重要，對(duì)光刻工藝的要求也越來越高。為了滿足光刻的要求，除了在光刻設(shè) 備方面的升級(jí)換代以外，抗反射層(Anti-Reflective Coating，ARC)技術(shù)也被應(yīng)用于光刻 中來提高光刻的精度。抗反射層的作用主要為防止光線通過光刻膠后在晶圓界面發(fā) 生反射。而反射的光線會(huì)與入射光發(fā)生干涉，導(dǎo)致光刻膠不能均勻曝光。在公開號(hào)為 US005...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。