技術(shù)編號(hào)：2750634
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求2008年1月16日提交的第61/021，338號(hào)美國臨時(shí)專利申請(qǐng)的優(yōu)先 權(quán)，并將其通過引用合并于本文。背景技術(shù)制造晶片級(jí)小型相機(jī)系統(tǒng)時(shí)，例如，多個(gè)光學(xué)元件被制造為基底(例如8英寸或12 英寸的基底)面上的陣列。這樣光學(xué)元件的示例包括折射光學(xué)元件、衍射光學(xué)元件、反射元 件、梯度折射率(GRIN)元件、亞波長光學(xué)結(jié)構(gòu)、抗反射敷層和過濾器。這些光學(xué)元件直接形 成在基底上，或者可選地從底板基底復(fù)制，在該底板基底上已經(jīng)形成了限定多個(gè)光學(xué)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。