技術(shù)編號(hào):2751554
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及可用于例如通過(guò)光刻技術(shù)制造器件的檢查方法。具體地,本發(fā)明涉及一種用于在襯底上印刷標(biāo)記的圖案,其用于測(cè)試光刻設(shè)備的與焦距和劑量相關(guān)的性質(zhì)。本發(fā)明還涉及包含圖案的掩模、包含標(biāo)記的襯底、印刷標(biāo)記的曝光設(shè)備、測(cè)試標(biāo)記的檢查設(shè)備以及所涉及的方法。背景技術(shù)光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上,通常是襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如,可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下,可以將可選地稱為掩?;蜓谀0娴膱D案形成裝置用于生成待形成在所述IC的單層上...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。