技術(shù)編號：2753984
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明是關(guān)于在局部地以液體充滿投影光學系統(tǒng)的像面一側(cè)狀態(tài)用投影光學系 統(tǒng)投影的圖案像曝光的曝光裝置和使用該曝光裝置的器件制造方法。背景技術(shù)半導體器件和液晶顯示器件是通過把掩模上所形成的圖案復(fù)制到感光性襯底上 邊的所謂光刻方法而制造的。在這一光刻工序中使用的曝光裝置有支承掩模的掩模臺和支 承襯底的襯底臺，通過投影光學系統(tǒng)一邊順序地移動掩模臺和襯底臺一邊把掩模圖案復(fù)制 到襯底上的裝置。近年來，為了與器件圖案的更進一步高集成化相對應(yīng)，希望更加提高投影 光學系統(tǒng)的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。