技術(shù)編號(hào)：2765311
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在光學(xué)制版形成圖案過程中利用相移掩模技術(shù)的集成電路制作領(lǐng)域。光學(xué)制版術(shù)在集成電路中已經(jīng)是一種被選用的技術(shù)，用于電路圖案成形。典型的情況是，紫外光被導(dǎo)向穿過一塊掩模。掩模的作用和普通照相術(shù)所用的“負(fù)片”相似。不過，和具有多個(gè)不同“灰度”等級(jí)的普通底片不同，典型的掩模只有完全透光的區(qū)域和完全不透光的區(qū)域。掩模上的圖案能夠以和普通照相術(shù)中從底片洗印相片相同的方式，被轉(zhuǎn)移到已涂覆了一層光阻層的半導(dǎo)體晶片上。一個(gè)光學(xué)透鏡系統(tǒng)把掩模圖案成像在光阻層表面上。已...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。