技術(shù)編號：2767495
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明總的涉及一種使用涂層材料于表面的方法，具體講為有關(guān)于制造半導(dǎo)體裝置時使用光敏光刻膠于晶片的方法。半導(dǎo)體裝置是用眾所周知的技術(shù)在硅基質(zhì)上制成數(shù)個區(qū)域，這些區(qū)域被精確地界定。同樣地在包含有金屬線的硅基質(zhì)上的其他區(qū)域也精確地界定，這些金屬線連接如此形成裝置的區(qū)域以制成超大規(guī)模集成電路(VLSI)。界定這些區(qū)域的圖形是由光刻法制成。最普通的方法為包括首先將光敏光刻膠材料轉(zhuǎn)動涂敷于晶片表面上，接著將此光刻膠層選擇地曝光于諸如紫外光、電子或X-射線中的一種形式輻...
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