技術(shù)編號(hào)：2770294
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種通過(guò)引發(fā)吸附劑分子與固體表面之間的局部化學(xué)反應(yīng)，從而在該固體表面進(jìn)行原子或分子級(jí)圖形印刻(patternimprinting)的方法，美國(guó)專(zhuān)利No．5，645，897公開(kāi)了Andra的一種表面改性的方法，對(duì)將要蝕刻或涂布的表面部分的正前方的表面或區(qū)域進(jìn)行離子轟擊。所選擇的離子源產(chǎn)生的離子是高帶電的并具有足以使離子接近表面的高動(dòng)能，但又具有防止穿透表面的足夠低的能量。該專(zhuān)利所述過(guò)程的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是離子的高帶電狀態(tài)和低動(dòng)能導(dǎo)致了非常定位的能量沉積，從...
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