技術(shù)編號：2776333
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)同步控制方法和系統(tǒng)，更進(jìn)一步而言，涉及一種基于談判機(jī)制和隊列機(jī)制的步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)連續(xù)曝光掃描控制方法，以及一個由曝光控制模塊、掃描控制模塊和各個子控制模塊組成的、利用各個子控制模塊之間實(shí)時接口協(xié)同工作、實(shí)現(xiàn)上述控制方法的步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)控制系統(tǒng)。 背景技術(shù) 光刻機(jī)是集成電路加工過程中最關(guān)鍵的設(shè)備。國外早在多年前就已提出下一代光刻的概念，并對極紫外線光刻、電子束投影光刻、離子束投影光刻等技術(shù)進(jìn)行了大量的研究，但由于工藝、...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。