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      一種ZnS基底1064nm、8μm~10μm光波段大入射角增透膜及ZnS光窗的制作方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):2795199

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      本發(fā)明涉及光學(xué)器件及其加工,具體涉及一種以ZnS為基底,在1064nm 禾口 8 μ m 10 μ m兩個(gè)光波段具有大入射角的增透膜,同時(shí)還涉及一種采用該增透膜的ZnS光窗。背景技術(shù)熱等靜壓多光譜ZnS基底是機(jī)載光電系統(tǒng)光窗類光學(xué)零件的主要備選材料之一。 因探測(cè)目標(biāo)對(duì)飛行器的相對(duì)位置的不同、飛行器本身氣動(dòng)性能及飛行器整體隱身性能的需求,紅外探測(cè)系統(tǒng)光窗的入射角越來越擴(kuò)展到大角度。本發(fā)明涉及到的波長(zhǎng)是1064nm和 8μπι IOym兩個(gè)光波段,設(shè)計(jì)入射角是...
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