技術編號：2795540
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。相關申請的參考本申請要求美國臨時申請的優(yōu)先權，該申請的申請日為2010年10月4日、申請?zhí)枮?1、344，774、發(fā)明名稱為，為了本申請的整體性等各種目的在此該申請被作為參考而結合。關于聯(lián)邦資助研究或發(fā)展的陳述本發(fā)明是根據(jù)NNM08AA03C號合同而受到美國國家航空航天局(N. A. S. A)的部分資助。美國政府對該發(fā)明享有一定的權利。背景技術抗反射涂層(料)對所有基于透鏡的成像系統(tǒng)是重要的，但是一些基底(基片) (substrates)、波長和環(huán)境出現(xiàn)...
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