技術(shù)編號：2800337
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及rop、FED、IXD等平板顯示，CRT用蔭罩、印刷電路板、半導(dǎo)體等領(lǐng)域，尤其涉及一種光掩膜版(Photo mask blanks)防塵保護裝置。背景技術(shù)在曝光制程中，若光掩膜版上被微塵顆粒所污染，則會形成一個失真的影像在晶圓上，如此即產(chǎn)生一個瑕疵在晶片上。為了增加晶片生產(chǎn)良率，同時減少光掩膜版使用時清潔和檢驗的次數(shù)，通常會在光掩膜版表面覆蓋上一層防塵保護膜，用以防止微塵 顆粒直接掉落于光掩膜版表面。在利用貼合膠和框架將防塵保護膜罩在光掩膜版...
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