技術(shù)編號：2803717
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明主要涉及到半導(dǎo)體芯片產(chǎn)品光刻過程使用的光刻版，其優(yōu)點在于具有不使用專用測量設(shè)備，使用顯微鏡就能夠快速讀出特征尺寸的實際尺寸，提高工作效率，可節(jié)省購買專用測量設(shè)備及其設(shè)備維護(hù)的資金。背景技術(shù)在半導(dǎo)體芯片產(chǎn)品加工過程中，對于半導(dǎo)體芯片產(chǎn)品的特征尺寸的監(jiān)控是必要的工作，半導(dǎo)體芯片產(chǎn)品制造廠都投入大量的資金，用于采購專用測量設(shè)備及其設(shè)備的維護(hù)工作，以最基本3 u m-METAL GATE的生產(chǎn)線一般需要2臺以上分辨率在0.15 y m以下的測試設(shè)備，用于測量...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。