技術(shù)編號(hào)：2811792
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明主要涉及半導(dǎo)體制紅藝。更具體地，本發(fā)明涉及光亥幅片系統(tǒng)。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體制造中，在凈化室環(huán)境中使用具有多個(gè)加工步驟的處理方案，在半 導(dǎo)術(shù)寸底上制徵寺征。在半導(dǎo)術(shù)寸底制造中通常4頓集群系統(tǒng)，該集群系統(tǒng)整合 多個(gè)工藝室，以在不將襯底移出高度控制處理環(huán)境的情況下進(jìn)行連續(xù)的處理步 驟。在半導(dǎo)條成電路制造中4頓的許多光刻集群系統(tǒng)，當(dāng)前結(jié)合有集成晶片軌 道和光刻系統(tǒng)。晶片光刻集群之內(nèi)的各種?！?^刊寺定功能，戶，功能包 恭合下面的半導(dǎo)體晶片襯底涂覆稱為光繊蝕劑...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。