技術(shù)編號：2816193
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及圖案形成方法、通過圖案形成方法形成的圖案、模具、 處理裝置和處理方法。背景技術(shù)近年來，用于將設(shè)置在模具上的精細(xì)結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到諸如樹脂材料、 金屬材料等的待處理部件上的精細(xì)處理技術(shù)已經(jīng)被開發(fā)并且受到關(guān)注。該忮術(shù)凈皮稱為納米壓印 (nanoimprint )或納米壓纟丈 (nanoembossing ),并且提供幾納米的量級的處理分辨能力。因此， 該技術(shù)可望代替諸如步進(jìn)儀(stepper)、掃描儀等的曝光裝置被應(yīng)用 于下一代半導(dǎo)體制造技術(shù)。并且，該技術(shù)能...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。