技術(shù)編號(hào)：2818402
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制程，特別涉及一種光刻機(jī)工件臺(tái)移動(dòng)調(diào)整裝 置及方法。背景技術(shù)目前光刻機(jī)的工件臺(tái)，開始朝著采用平衡質(zhì)量塊抵消運(yùn)動(dòng)反力或者雙硅片 的方向發(fā)展。光刻機(jī)工件臺(tái)的結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜，并且尺寸和質(zhì)量也越來越大。目前設(shè)計(jì)的工件臺(tái)質(zhì)量達(dá)近4噸。工件臺(tái)在安裝和定期維修維護(hù)后重安裝時(shí)需 要將工件臺(tái)移入或移出整機(jī)框架進(jìn)行操作，由于工件臺(tái)的尺寸、重量和位置精 度等因素，所以移動(dòng)工件臺(tái)會(huì)很困難。發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種， 以解決現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。本發(fā)明...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。