技術(shù)編號(hào)：2818648
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種在集成電路制造中光學(xué)臨近修正方法，特別是涉及。背景技術(shù)在先進(jìn)光刻工藝中，因曝光圖形尺寸的縮小，須對(duì)光掩模圖形進(jìn)行預(yù)先的光學(xué)臨 近修正(Optical Proximity Correction，0PC)，來彌補(bǔ)由光學(xué)系統(tǒng)的有限分辨率造成的光 學(xué)臨近效應(yīng)。傳統(tǒng)的規(guī)則式光學(xué)臨近修正中，對(duì)二維角的圖形采用加增補(bǔ)塊(serif)的方 法來增加圖形的分辨率(見圖2)，使其盡可能的與設(shè)計(jì)圖形保持一致。但因光刻工藝分辨 率的限制，傳統(tǒng)seri f圖形無法滿足...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。