技術編號：2903486
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種用于場發(fā)射器的基片，該基片制造方法及該基片應用，特別是在計算機斷層造影中的應用。背景技術現(xiàn)有技術的缺陷在于，極小的電流以及極小的機械穩(wěn)定性。 發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明要解決的技術問題是，實現(xiàn)一種基于碳的結構，該結構具有長的邊棱和很多頂尖，以便實現(xiàn)更高的電流以及實現(xiàn)在計算機斷層造影等應用的高真空中使用的場電子發(fā)射器的自穩(wěn)定的長時間耐久性。本發(fā)明的一般認知是，一方面排列的CNTs，像與本發(fā)明并列的第二個申請中所描述的那樣，另一方面展開的石墨烯或多層石...
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