技術(shù)編號：2953802
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種半導體介質(zhì)刻蝕機，尤其涉及刻蝕電極機中的上電極。背景技術(shù)電介質(zhì)刻蝕機是半導體芯片加工的關(guān)鍵設(shè)備，而電介質(zhì)刻蝕機中實現(xiàn)晶圓刻蝕芝能的是上、下兩個電極組成的電極結(jié)構(gòu)。其中上電極接1000V左右的正電，實現(xiàn)對等離子刻蝕氣體的分配和控制功能，下電極與大地連接，不帶電荷，處于其中的氣體中的分子被上、下兩電極間形成高壓電場經(jīng)加速對放置在下電極上的晶圓進行高速轟擊，從而產(chǎn)生刻蝕作用。為了實現(xiàn)所述的工作原理，要求上電極具有對等離子工作氣體有分配功能、自身...
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