技術(shù)編號(hào):2973953
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及使用紫外線(xiàn)分光計(jì)測(cè)定等離子體聚合的聚合物層的性能的裝置。但是,這樣的方法的缺點(diǎn)是它要求較高的能量和高真空狀態(tài),使得不容易合成聚合物且成本高。因此,已經(jīng)提出一種使用等離子體的表面改性方法,它能夠以低的能量和低真空狀態(tài)在基底上形成聚合物。在這樣的方法中,一個(gè)室被抽成真空,包括待合成材料的單分子的反應(yīng)氣體被引入到所述室,然后使用供電裝置通過(guò)直流或高頻放電。此時(shí),產(chǎn)生反應(yīng)氣體的的等離子體,其中的預(yù)定的離子向基底移動(dòng),或向電極移動(dòng),以在其上合成特定的聚合物...
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