技術(shù)編號(hào)：3171246
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及膜沉積方法。更具體說，本發(fā)明涉及利用磁化的片等離子體源在金屬底材上的氮化鈦化學(xué)汽相淀積工藝。背景技術(shù)對(duì)新涂層及表面處理方法的興趣在二十世紀(jì)九十年代迅速提高，特別是對(duì)氮化鈦(TiN)的興趣，這可從該陶瓷材料的出版的論文/專利的數(shù)量上判斷出來。在硅上涂氮化鈦膜廣泛用作大規(guī)模集成電路的衍射阻擋層。鑒于TiN膜在切削過程中可降低磨蝕率以及由于它的化學(xué)穩(wěn)定性在工具和工件之間化學(xué)反應(yīng)小，它也是工具上特硬的耐磨涂層。TiN是一種非常穩(wěn)定的化合物，在大多數(shù)環(huán)境中...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。