技術(shù)編號(hào)：3248994
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及含有2種以上的高熔點(diǎn)金屬的燒結(jié)體濺射耙，特別涉 及能夠通過改良靶組織而防止形成基體的主成分以外的金屬粒子的脫 落、并且通過減少濺射時(shí)的起弧和顆粒的產(chǎn)生而使成膜質(zhì)量提高的含 有高熔點(diǎn)金屬的燒結(jié)體濺射靶。背景技術(shù)由于高熔點(diǎn)金屬釕(Ru)、銠(Rh)、或銥(Ir)在熱穩(wěn)定性方面優(yōu)良， 而且低電阻性、阻滲性優(yōu)良，因此作為半導(dǎo)體元件的成膜材料、特別 是作為柵電極材料、各種擴(kuò)散阻滲材料而受到關(guān)注。上述釕(Ru)、銠(Rh)或銥(Ir)等有時(shí)可以各自單獨(dú)作為薄...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。