技術編號：3250033
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明的實施方式涉及用于襯底處理腔室的工藝配件。技術背景在集成電路和顯示器的制造中，諸如半導體晶圓或顯示器面板的襯底放置 在襯底處理腔室中，在腔室中設定處理條件以在襯底上沉積或蝕刻材料。典型 的工藝腔室包含腔室組件，其包括圍繞工藝區(qū)域的圍護壁、用于提供腔室中工 藝氣體的氣體供應、用于激勵工藝氣體以處理襯底的氣體激發(fā)器、用于去除廢 氣并保持腔室中的氣壓的氣體排放裝置，以及用于保持襯底的襯底支架。該腔室可包括，例如，濺射(PVD)、化學氣相沉積(CVD)和蝕刻...
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