技術(shù)編號(hào)：3255301
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種真空鍍膜技術(shù)，尤指一種連續(xù)真空鍍膜裝置。背景技術(shù)一般的真空鍍膜，是在一個(gè)固定的鍍膜空間進(jìn)行，鍍件每鍍一層膜，需要從鍍膜腔體取出，再進(jìn)行第二次鍍膜，工作效率低，成本高，污染環(huán)境嚴(yán)重。發(fā)明內(nèi)容為解決前述存在的問題，本發(fā)明提供一種連續(xù)真空鍍膜裝置，該裝置由若干個(gè)鍍膜腔體串接節(jié)聯(lián)構(gòu)成，每個(gè)鍍膜腔體配置有離子束清洗源、和/或過濾陰極真空鍍膜膜源、和/或磁控濺射源和分子真空泵，鍍膜腔體之間用插板閥關(guān)閉密封或開啟，節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體，兩頭各有一個(gè)裝載/卸載室和...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。